奥　　和幸

（学歴）
昭和６３年、帝京平成大学情報学部情報工学科に入学。
在学中はアモルファス半導体の太陽電池の研究室に在籍、主に、アモルファス半導体の電流−温度特性を測定、解析するプログラムを作成し、アモルファス半導体のエネルギーバンドの研究に従事。

（職歴）
平成４年、富士電機株式会社入社。電力系統における変圧器、送電線、遮断器、及び母線等を保護する保護継電装置や、電力系統の解析、制御システム等に関する技術、工程、コスト、品質等の取り纏め業務に携わる。

平成１１年、インテクト国際特許事務所に入所。
以後、関与した技術分野は、音響・映像機器、携帯型電子機器、ソフトウェア、ネットワーク技術、ビジネス方法関連分野など多岐にわたる。

平成１３年弁理士試験合格、同年弁理士登録。

平成１５年　パートナー就任

（抱負）
知的創造の時代といわれる２１世紀、知的財産の創造、保護、更には有効活用を図る上で、お客様に満足頂けるよう仕事の質の向上に努め、お客様に信頼されるよう努力する所存です。